99,7 % avancerad aluminiumoxidkeramik
Högren aluminiumoxidkeramik (Al)2O3:>99,7%）
-Poleringsplatta/vändbord för aluminiumoxidskivor
-Stor storlek hög renhet aluminiumoxidbasplatta för LCD-tillverkningsutrustning
Material:
Högren aluminiumoxidAl2O3:>99,7%
Ansökan:
Halvledar-, petroleum-, kemi-, solcells-, LCD- etc. industrier, såsom mekaniska delar, elektroniska delar, mikrovågsinduktionsskivor, isoleringsdelar. Såsom tillverkning av halvledarkomponenter, vakuumutrustning, utrustning för tillverkning av flytande kristaller och andra komponenter. Till exempel är den stora storleken på högren aluminiumoxidkeramikwaferpoleringsplatta/vändbord en viktig komponent i CMP vid kemisk-mekanisk polering, aluminiumoxidbasplatta för LCD.
Drag:
Högrenhetsaluminium2O399,7 % -99,9 %
Hög mekanisk hållfasthet
Hög slitstyrka
Hög elektrisk isolering
Hög kemisk hållbarhet
Bra värme- och korrosionsbeständighet
Tillverkarens fördel:
Vi har oberoende immateriella rättigheter till PIBM Spontaneous Solidification-systemet och producerar professionellt högkvalitativa fina keramiska komponenter.
Den nya tekniken löser deformations- och sprickproblemen hos stora keramiska våta ämnen i beredningsprocessen, och produktprestanda optimeras avsevärt för stora keramiska delar som framställts med traditionella metoder.
Chemshun Ceramics polering av safiröverlappande wafers i aluminiumoxidkeramik är tillverkad med en PIBM-process. Det är en internt avancerad teknik. PIBM löser framgångsrikt problemet med sprickor och deformation i storskalig aluminiumoxidkeramik. PIBM-tekniken öppnar upp ett nytt fönster för finkeramik. Vi producerar inte bara högkvalitativa poleringsplattor för aluminiumoxidkeramikwafer, utan även andra serier av storskalig högren aluminiumoxidkeramik, såsom 1200x500x20 mm keramiska substrat för LCD-tillverkningsutrustning, halvledarleveransspår, vakuumdelar, allmänna mekaniska delar och skottsäker keramik.
Produktens form och storlek
1. Poleringsplatta/vändbord för aluminiumoxidskivor. Skiva, ringstorlek under 850 mm, tjocklek 45 mm.
2. Aluminiumbasplatta för LCD som stödmottagare/bärplatta. Form som långa brädor, långa stänger, fyrkantiga brädor, tunna brädor med storlek under 1500*600 mm, såsom: 1200x500x20, 1400x900x30 etc.
3. Styrskenor under 1000 * 45 * 45 mm.
4. Tomma rör, cylindrar, elektriska vakuumrör etc. Med storlek under 300 ~ 600 × L500 mm.
5. Anpassade produkter med olika formdelar accepteras.
Huvudparameter: (Kemisk / fysikalisk):
| Egendom | Punkt | Enhet | Chemshun 99,7% aluminiumoxidkeramik |
| Allmänna egenskaper | Huvudkomponent | viktprocent | 99,7–99,9 |
| Densitet | gm/cc | 3,94–3,97 | |
| Färg | - | Elfenben | |
| Vattenabsorption | % | 0 | |
| Mekaniska egenskaper | Böjhållfasthet (MOR) 20 ℃ | Mpa(psix10^3) | 440-550 |
| Elasticitetsmodul 20 ℃ | GPa (psix10^6) | 375 | |
| Vickers hårdhet | Gpa (kg/mm²) R45N | >=17 | |
| Böjstyrka | GPA | 390 | |
| Draghållfasthet 25 ℃ | MPa(psix10^3) | 248 | |
| Brottseghet (KI c) | MPa* m^1/2 | 4-5 | |
| Termiska egenskaper | Värmeledningsförmåga (20 ℃) | V/mk | 30 |
| Värmeutvidgningskoefficient (25-1000 ℃) | 1x 10^-6/℃ | 7.6 | |
| Termisk chockbeständighet | ℃(∆Tc) | 200 | |
| Maximal användningstemperatur | ℃ | 1700 | |
| Elektriska egenskaper | Dielektrisk styrka (1 MHz) | ac-kv/mm(ac v/mil) | 8,7 |
| Dielektrisk konstant (1 MHz) | 25℃ | 9,7 | |
| Volymresistivitet | ohm-cm (25℃) | >10^14 | |
| ohm-cm (500℃) | 2×10^12 | ||
| ohm-cm (1000℃) | 2×10^7 |
Gjutningsprocess Keramisk ytbehandlingsprocess
Kvalitetssäkring:
Varje batchprodukter inspekteras i fabrikslaboratoriet och det nationella inspektionscentret.
