Vad är en poleringsplatta för keramiska wafers med hög renhet av aluminiumoxid?

Med den snabba utvecklingen av halvledarindustrin har industrins skala ökat snabbt, och utrustning för halvledartillverkning har fortsatt att utvecklas till precision och komplexitet. Eftersom keramik har fördelarna med hög hårdhet, hög elasticitetsmodul, hög slitstyrka, hög isolering, korrosionsbeständighet, låg expansion etc., kan den användas som delar av kiselpoleringsmaskiner, epitaxial-/oxidations-/diffusionsvärmebehandlingsutrustning, litografimaskiner, deponeringsutrustning, halvledaretsningsutrustning, jonimplantationsmaskiner och annan utrustning, så forskning, utveckling och produktion av precisionskeramiska delar påverkar direkt utvecklingen av halvledarindustrin. De tekniska kraven för dess tillverkning blir högre och högre.

Hög renhet aluminiumoxid, 99,7%-99,9% aluminiumoxid.
Hög mekanisk hållfasthet, hög slitstyrka, hög elektrisk isolering, hög kemisk stabilitet, god värmebeständighet och korrosionsbeständighet. För närvarande är användningen av keramiska slipskivor för halvledarkiselskivor den mest överlägsna och banbrytande slipningsmetoden. Dubbelsidig slipning används för att slipa den skurna kiselskivan, och kvaliteten på slipskivan förbättras genom att förbättra slipningsprocessen (skivmaterial, slipvätska, sliptryck och sliphastighet, etc.). I synnerhet kan användningen av keramiska plattor istället för gjutjärnsplattor, för att undvika slipning av skivans huvudyta orsakad av ärr eller föroreningar, minska införandet av metalljoner, minska den efterföljande bearbetningen av kisel, förkorta den efterföljande bearbetningstiden (korrosion), förbättra produktionseffektiviteten och minska förlusten av kiselbearbetning, vilket avsevärt förbättrar utnyttjandet av kisel.

Poleringsplatta med hög aluminiumoxidhaltanvänds inom halvledar-, petroleum-, kemi-, solcells-, flytande kristall- och andra industrier, såsom mekaniska delar, elektroniska delar, mikrovågsinduktionsskivor, isoleringsmaterial och andra delar, halvledarkomponenter, vakuumutrustning, utrustning för tillverkning av flytande kristaller och andra delar. Stora och högrenta aluminiumoxidkeramik har ett viktigt tillämpningsvärde inom safirindustrin och halvledarchipsindustrin. Det är ett viktigt stöd och förbrukningsmaterial för kemisk-mekanisk polering (CMP) av safir- och halvledarkiselskivor. Stora och högrenta aluminiumoxidkeramik kan också användas som aluminiumoxidsubstrat för LCD-skärmar.